ニュースリリース
2023年度
2024年1月26日
ＪＸ金属株式会社
组织改正について
ＪＸ金属株式会社（社長：林 陽一、以下「当社」）は、新規事業分野の育成推進のため、本年2月1日付で「技術本部技術戦略部」内に「CVD?ALD材料事業推進室」を設置いたします。
半导体製造プロセス向けの材料市场は、今后も高い成长が见込まれています。当社主力製品のひとつである半导体用スパッタリングターゲットは、半导体チップの薄膜を形成する笔痴顿プロセス（※1）に用いられ、顾客から高い评価を受け、世界トップの市场シェアを有しています。今后半导体の微细化や多层化がさらに进んでいく中で、スパッタリング法に加えて、颁痴顿?础尝顿（※2）による薄膜形成のニーズも高まることが见込まれています。当组织では、次世代半导体向け颁痴顿?础尝顿材料の开発テーマ探索から量产化までを一贯して担い、早期事业化を推进してまいります。
以 上
※1 PVD：Physical Vapor Deposition(物理気相成長法)の略。スパッタリング法は代表的なPVDプロセスのひとつ。
※2 CVD：Chemical Vapor Deposition(化学気相成長法)の略。化学反応を活用して薄膜を形成する方法。
ALD：Atomic Layer Deposition(原子層積層法)の略。原子層レベルで膜厚を制御して薄膜を形成する方法。