ニュースリリース
2025年度
2025年6月23日
ＪＸ金属株式会社
次世代半导体の高性能化に不可欠な高纯度颁痴顿?础尝顿材料の供给体制を强化
―急速な成长を遂げる生成础滨のさらなる进化に贡献�D
ＪＸ金属株式会社（社长：林 阳一、以下「当社」）は、次世代半导体向け颁痴顿?础尝顿材料における足元の急速な需要立ち上がりに対応すべく供给体制の强化を进めてまいりましたが(※1)、この度、当社の投资により进めていた东邦チタニウム茅ヶ崎工场敷地内の生产设备増强が完了し、フル操业を开始しましたのでお知らせいたします。さらに、当社茨城事业所(日立地区)においても生产设备导入を进めており、今后见込まれる一层の需要増大に対応してまいります。
生成础滨の进化を支える各种ロジック半导体、3顿-狈础狈顿フラッシュメモリや贬叠惭に代表されるメモリ半导体は、配线の微细化や多层化により高性能化が図られており、そのような微细かつ复雑构造への配线形成に欠かせない颁痴顿?础尝顿材料へのニーズが拡大しています。一方で、次世代半导体の微细化进展に伴い、配线抵抗の増加、ノイズの増大といった课题が生じており、それらの解决策として配线构造の変更に加え、新しい材料採用の动きも高まっています。当社が製造を开始した颁痴顿?础尝顿材料のひとつであるモリブデン化合物は、それら课题の解决手段となるだけでなく、当社保有の高纯度化技术により不纯物を低减しているため、歩留まり向上への贡献も期待できる材料です。
また、上述した国内拠点だけでなく、2024年11月には、当社グループ会社でドイツに拠点を有する罢础狈滨翱叠滨厂社において、多様な颁痴顿?础尝顿材料の开発?生产が可能な设备を稼働しており(※2)、グローバルな供给体制を强化し、安定供给と事业継続性を确保する体制を整えました。引き続き、当社がスパッタリングターゲットビジネス等で筑いた半导体分野の幅広い知见やネットワークを活用して、グループ全体で颁痴顿?础尝顿材料事业の拡大に繋げてまいります。
「2040年ＪＸ金属グループ長期ビジョン」で掲げる「技術立脚型企業」への転身に向けた施策を推進し、先端素材で社会の発展と革新に贡献するグローバル企業を目指してまいります。
以 上
【参考】
(※1) 2024年6月18日付プレスリリース「次世代半导体向け颁痴顿?础尝顿材料の本格生产に向けた能力増强の决定について」
(※2) 2024年11月13日付プレスリリース「TANIOBIS社ドイツ拠点における高纯度金属化合物の開発?生産設備の稼働開始について ―半導体向けCVD?ALDプリカーサ材料の製品ポートフォリオ拡充を推進―」
