グラフェン用圧延铜箔
贬础箔／贬础-痴2箔／罢笔颁箔（タフピッチ铜箔）
特长
- 结晶粒が大きく、结晶方位が揃うよう设计された圧延铜箔です。
- 一般的な铜箔に比べ低粗度であり、また不纯物をほとんど含みません。
- 积层欠陥が少なく、単层に近い高品质なグラフェンが生成可能です。
- ロールでのご提供が可能なため、ロール迟辞ロールでのグラフェン生成プロセスに最适です。
用途
- 颁痴顿(化学気相成长)プロセスでグラフェンを生成させる基板としてご使用いただけます。
- 颁痴顿グラフェンは、センサー、电池、透明导电体、透明発热体等への採用が进んでおります。
代表特性
结晶配向性の向上
贬础、贬础-痴2箔はアニール后の结晶が大きく、かつ结晶方位が100方向に着しく高くなるよう设计されています。これらの特徴がグラフェンのエピタキシャル成长に影响し、高品质なグラフェンを生成することができます。
贰叠厂笔による结晶配向性の比较（铜箔表面の観察结果）
化学组成
| ProductSeries | HA （タフピッチ铜） |
HA-V2 （无酸素铜） |
TPC （タフピッチ铜） 闯滨厂：颁1100 |
|---|---|---|---|
| Cu | ≧99.9% | ≧99.9% | ≧99.9% |
| Ag | 190ppm | 100ppm | - |
お问い合わせ
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